Recent Images

ウィスカ 温度サイクル



ウィスカ 酸化膜 図6 温度サイクルで生じたウィスカ根本のSEM 像とSn 粒界の 割れと酸化状態SEM右ウィスカ成長のメカニズム4 ウィスカ根本 図7 大気中の温度サイクルで生じたウィスカ表面の年輪1500 サイクル4このウィスカは1. 温度差と寿命サイクル数は次の式で表されます LAT-n L寿命 A定数 T温度差 n温度差係数 この式を用いてディレーティング温度差T1.

3
3

Tdkのmlcc 積層セラミックチップコンデンサ は錫ウィスカの試験をどのように行いますか よくある質問 Tdk プロダクトセンター
Tdkのmlcc 積層セラミックチップコンデンサ は錫ウィスカの試験をどのように行いますか よくある質問 Tdk プロダクトセンター

Jeita電子実装技術標準化活動報告会2018 実施報告 Jeita電子情報技術産業協会
Jeita電子実装技術標準化活動報告会2018 実施報告 Jeita電子情報技術産業協会

熱衝撃試験槽 液相 資料カゴ 190W 140H 140D mm.

Jeita電子実装技術標準化活動報告会2018 実施報告 Jeita電子情報技術産業協会

ウィスカ 温度サイクル. 温度サイクル試験槽 気相 装置内容積 650W x 460H x 370D mm. 温湿度サイクル 応力端子接触 電圧印加 応力衝撃 熱応力 酸化腐食 接続不良 部品破損 ストレス 様々な故障 部品基板 潜在欠陥 部品破損 部品破損 断線短絡 部品破損 故障とは正常動作品が正常に動作しなくなる現象. ウィスカが伸びる力はめっき皮膜の応力拡散や加 工による歪であり圧縮応力を受けたキズ部所に出やす い傾向がある 図3に示すように錫めっきした銅合金材を熱処理す ることによりウィスカ発生を抑制することができる.

特長 ウィスカの耐湿性評価特許第5066143 実装基板での評価事例が少ないウィスカその理由のひとつは試験時間が1000 時間や3000 時間と大変長いことが挙げられます.

ウィスカの発生原因と試験 観察 評価の課題解決 電子デバイス業界 マイクロスコープ拡大解析事例 キーエンス
ウィスカの発生原因と試験 観察 評価の課題解決 電子デバイス業界 マイクロスコープ拡大解析事例 キーエンス

錫めっきのウィスカ対策
錫めっきのウィスカ対策

15 5 10 環境条件 通常環境で問題となるのは 高温 高湿 温度サイクルである これらの影響はウィスカの生成 成長機構との関係でまず詳しく調査された その結果問題となったのは室温エージング 高温高湿 温度サイクルの影響で高温
15 5 10 環境条件 通常環境で問題となるのは 高温 高湿 温度サイクルである これらの影響はウィスカの生成 成長機構との関係でまず詳しく調査された その結果問題となったのは室温エージング 高温高湿 温度サイクルの影響で高温

ウィスカ評価試験 信頼性評価試験 環境試験 Okiエンジニアリング
ウィスカ評価試験 信頼性評価試験 環境試験 Okiエンジニアリング

15 3 日本での研究 15 3 1 jeitaの報告 jeita2003 英文 1 定義 snの再結晶によって起こり めっき皮膜に働く圧縮応力によって成長する現象 圧縮応力としてめっきの内部応力 cu6sn5の拡散 形成 sn
15 3 日本での研究 15 3 1 jeitaの報告 jeita2003 英文 1 定義 snの再結晶によって起こり めっき皮膜に働く圧縮応力によって成長する現象 圧縮応力としてめっきの内部応力 cu6sn5の拡散 形成 sn

15 5 10 環境条件 通常環境で問題となるのは 高温 高湿 温度サイクルである これらの影響はウィスカの生成 成長機構との関係でまず詳しく調査された その結果問題となったのは室温エージング 高温高湿 温度サイクルの影響で高温
15 5 10 環境条件 通常環境で問題となるのは 高温 高湿 温度サイクルである これらの影響はウィスカの生成 成長機構との関係でまず詳しく調査された その結果問題となったのは室温エージング 高温高湿 温度サイクルの影響で高温

2
2

錫めっきのウィスカ対策
錫めっきのウィスカ対策